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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第255位 124件 (2023年:第318位 109件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第252位 116件 (2023年:第281位 118件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7489772 | 多孔質膜の製造方法、多孔質膜製造用の組成物の製造方法、及び多孔質膜 | 2024年 5月24日 | |
特許 7489893 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 5月24日 | |
特許 7488315 | メルカプト化合物 | 2024年 5月21日 | |
特許 7479139 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 5月 8日 | |
特許 7479142 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 5月 8日 | |
特許 7477443 | 硬化性樹脂組成物、その硬化物、硬化膜の製造方法、及びマイクロレンズの製造方法 | 2024年 5月 1日 | |
特許 7475111 | レジストパターン形成方法、レジスト組成物及びその製造方法 | 2024年 4月26日 | |
特許 7475134 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 4月26日 | |
特許 7474600 | 基板加熱装置および基板処理システム | 2024年 4月25日 | |
特許 7474340 | 表面処理液、及び表面処理方法 | 2024年 4月24日 | |
特許 7466385 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 | 2024年 4月12日 | |
特許 7466597 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、並びに、化合物及びその中間体 | 2024年 4月12日 | |
特許 7466782 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸発生剤 | 2024年 4月12日 | |
特許 7464944 | 電波吸収積層フィルム、その製造方法、及びそれを含む素子 | 2024年 4月10日 | |
特許 7464443 | 含ケイ素ポリマー、膜形成用組成物、含ケイ素ポリマー被膜の形成方法、シリカ系被膜の形成方法、及び含ケイ素ポリマーの製造方法 | 2024年 4月 9日 |
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7489772 7489893 7488315 7479139 7479142 7477443 7475111 7475134 7474600 7474340 7466385 7466597 7466782 7464944 7464443
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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