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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第255位 124件 (2023年:第318位 109件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第252位 116件 (2023年:第281位 118件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7539953 | 撥液処理剤、及び被処理体の位置選択的撥液化方法 | 2024年 8月26日 | |
特許 7539226 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 8月23日 | |
特許 7538890 | 重合性組成物、及び素子が搭載された基板の製造方法 | 2024年 8月22日 | |
特許 7535931 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 | 2024年 8月19日 | |
特許 7534352 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2024年 8月14日 | |
特許 7531328 | 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法、及び電子部品の製造方法 | 2024年 8月 9日 | |
特許 7531343 | ルテニウム配線の製造方法 | 2024年 8月 9日 | |
特許 7525991 | 表面修飾金属酸化物微粒子の製造方法、改質金属酸化物微粒子の製造方法、表面修飾金属酸化物微粒子、及び金属酸化物微粒子分散液 | 2024年 7月31日 | |
特許 7526019 | 積層体、積層体の製造方法、及び半導体基板の製造方法 | 2024年 7月31日 | |
特許 7523256 | ハードマスク形成用組成物及び電子部品の製造方法 | 2024年 7月26日 | |
特許 7523289 | ネガ型感光性組成物、パターン形成方法及び中空構造体の製造方法 | 2024年 7月26日 | |
特許 7523500 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 7月26日 | |
特許 7522647 | 硬化性組成物、硬化物、及び化合物 | 2024年 7月25日 | |
特許 7522648 | 硬化性組成物、硬化物、及び化合物 | 2024年 7月25日 | |
特許 7520258 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び高分子化合物 | 2024年 7月22日 |
118 件中 31-45 件を表示
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7539953 7539226 7538890 7535931 7534352 7531328 7531343 7525991 7526019 7523256 7523289 7523500 7522647 7522648 7520258
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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