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株式会社日立ハイテクサイエンス

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　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第886位　33件（2018年：第838位　33件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第729位　30件（2018年：第744位　29件）

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株式会社日立ハイテクサイエンスの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2019-109260	３次元微動測定装置	2019年 7月 4日
特開 2019-102138	断面加工観察方法、荷電粒子ビーム装置	2019年 6月24日
特開 2019-102242	単原子終端構造を有するイオン源および電子源、単原子終端構造を有するティップ、ガス電界電離イオン源、集束イオンビーム装置、電子源、電子顕微鏡、マスク修正装置、並びに単原子終端構造を有するティップの製造方法	2019年 6月24日
特開 2019-95206	試料分析システム、表示方法及び試料分析方法	2019年 6月20日
特開 2019-96395	荷電粒子ビーム装置	2019年 6月20日
特開 2019-90813	液体クロマトグラフデータ処理装置	2019年 6月13日
特開 2019-56620	クロマトグラフのデータ処理装置	2019年 4月11日
特開 2019-45402	蛍光Ｘ線分析装置及び蛍光Ｘ線分析方法	2019年 3月22日
特開 2019-39690	分析装置及び分析方法	2019年 3月14日
特開 2019-39797	恒温装置、及びそれを備えた分析装置	2019年 3月14日
特開 2019-27795	放射線分析装置	2019年 2月21日
特開 2019-23570	発生ガス分析装置及び発生ガス分析方法	2019年 2月14日
特開 2019-23571	質量分析装置及び質量分析方法	2019年 2月14日
特開 2019-23572	質量分析装置及び質量分析方法	2019年 2月14日
特開 2019-23633	質量分析装置及び質量分析方法	2019年 2月14日

34 件中 16-30 件を表示

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2019-109260 2019-102138 2019-102242 2019-95206 2019-96395 2019-90813 2019-56620 2019-45402 2019-39690 2019-39797 2019-27795 2019-23570 2019-23571 2019-23572 2019-23633

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