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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第54位 709件
（
2011年：第52位 689件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第71位 547件
（
2011年：第98位 350件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5025609 | 真空処理装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5023199 | 荷電粒子線放射装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5022981 | 荷電粒子線装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5022951 | 半導体製造システム | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5022719 | 荷電粒子線装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5021394 | ＡＣＦ貼付け装置及びフラットパネルディスプレイの製造装置 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5016807 | データ処理システム | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5020483 | 荷電粒子線装置 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5016988 | 荷電粒子線装置およびその真空立上げ方法 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5020734 | 核酸解析方法及び装置 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5021373 | 検査装置、検査方法及び検査装置に用いるプローブユニット | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5017421 | 自動分析装置 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5017150 | 分離カラムおよびそれを用いた液体クロマトグラフ | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5010207 | パターン検査装置及び半導体検査システム | 2012年 8月29日 | |
| 特許 5014166 | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 | 2012年 8月29日 |
547 件中 196-210 件を表示
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5025609 5023199 5022981 5022951 5022719 5021394 5016807 5020483 5016988 5020734 5021373 5017421 5017150 5010207 5014166
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