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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第52位 689件
（
2010年：第70位 624件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第98位 350件
（
2010年：第95位 307件）
（ランキング更新日：2025年2月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4675701 | イオンミリング装置およびイオンミリング方法 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4675615 | 不良検査装置並びにプローブ位置決め方法およびプローブ移動方法 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4679172 | 表示用パネル基板の露光装置、表示用パネル基板の露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4676209 | 電子レンズ及びこれを用いた荷電粒子線装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4673170 | マルチ電子ビーム描画装置用デバイス及びその製造方法 | 2011年 4月20日 | 共同出願 |
| 特許 4671770 | 磁場計測装置 | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4674177 | プラズマ処理装置 | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4673770 | 光ヘテロダイン干渉測定方法およびその測定装置 | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4672050 | 自動分析装置 | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4672034 | 自動分析装置 | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4673173 | プラズマエッチング方法 | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4672623 | 半導体検査方法及び装置 | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4671594 | データ収集管理方法およびそのシステム | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4668809 | 表面検査装置 | 2011年 4月13日 | |
| 特許 4668807 | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線画像生成方法 | 2011年 4月13日 |
350 件中 226-240 件を表示
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4675701 4675615 4679172 4676209 4673170 4671770 4674177 4673770 4672050 4672034 4673173 4672623 4671594 4668809 4668807
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