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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第52位 689件
（
2010年：第70位 624件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第98位 350件
（
2010年：第95位 307件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4839127 | 校正用標準部材及びこれを用いた校正方法および電子ビーム装置 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4843399 | 検査装置及び検査方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4839254 | 質量分析データ解析方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842875 | 電子顕微鏡 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4843250 | 質量分析を用いた物質の同定方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842782 | 欠陥レビュー方法および装置 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842533 | 不良検査装置 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4843406 | キャピラリ電気泳動分析装置 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4841407 | 電子顕微鏡 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842648 | 試薬ボトル | 2011年12月21日 | |
| 特許 4838086 | 化学発光測定装置 | 2011年12月14日 | 共同出願 |
| 特許 4836875 | 修飾ペプチドの分析方法および装置 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4838736 | プラズマ処理装置 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4832222 | プラズマ処理装置 | 2011年12月 7日 | |
| 特許 4832375 | 試料像形成方法及び荷電粒子線装置 | 2011年12月 7日 |
350 件中 16-30 件を表示
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4839127 4843399 4839254 4842875 4843250 4842782 4842533 4843406 4841407 4842648 4838086 4836875 4838736 4832222 4832375
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