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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第59位 716件
（
2012年：第54位 709件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第51位 717件
（
2012年：第71位 547件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5244725 | 成膜装置 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5244723 | 成膜装置 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5247664 | 基板検査装置及びその測定運用システム | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5244677 | トロリ線摩耗量検出光学系およびトロリ線摩耗量測定装置 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5243048 | 集束イオンビームによる試料加工方法及び装置 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5242532 | 検査装置 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5244656 | 複合磁気ヘッドの書込幅及び／又は読出幅の測定方法および測定装置 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5244730 | 低真空走査電子顕微鏡 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5241209 | 試料前処理用デバイス及び試料分析方法 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5237982 | 有機ＥＬ用蒸着マスククリーニング装置、有機ＥＬディスプレイの製造装置および有機ＥＬ用蒸着マスククリーニング方法 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5241697 | アライメントデータ作成システム及び方法 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5241245 | 検査装置及び検査方法 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5237874 | 欠陥検査方法および欠陥検査装置 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5236615 | エッジ部分検出方法、測長方法、荷電粒子線装置 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5236612 | 自動分析装置 | 2013年 7月17日 |
717 件中 376-390 件を表示
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5244725 5244723 5247664 5244677 5243048 5242532 5244656 5244730 5241209 5237982 5241697 5241245 5237874 5236615 5236612
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