ホーム > 特許ランキング > 株式会社日立ハイテクノロジーズ > 2012年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(株式会社日立ハイテクノロジーズ)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第54位 709件 (2011年:第52位 689件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第71位 547件 (2011年:第98位 350件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4871761 | 生体サンプルの分析方法、及び自動分析装置 | 2012年 2月 8日 | |
特許 4871618 | 精度管理システム | 2012年 2月 8日 | |
特許 4871615 | 自動分析装置 | 2012年 2月 8日 | |
特許 4871027 | 試料載置用のステージ、XYステージおよび荷電粒子線装置 | 2012年 2月 8日 | |
特許 4870603 | 固相抽出カラムの水分除去確認方法及び固相抽出カラムの水分除去確認装置並びに固相抽出カラム | 2012年 2月 8日 | |
特許 4870450 | 検査装置、および検査方法 | 2012年 2月 8日 | |
特許 4866808 | 自動分析装置 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4866176 | 走査型電子顕微鏡を備えたプローバ装置及びプローバ装置の探針クリーニング方法 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4866141 | SEM式レビュー装置を用いた欠陥レビュー方法及びSEM式欠陥レビュー装置 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4868796 | 液晶モジュールの位置ずれ検出方法 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4865204 | 画像処理方法、画像処理装置及び半導体検査装置 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4866045 | 電子顕微鏡装置および同装置における試料ステージの位置決め制御方法 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4865421 | 環境制御型電子線装置 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4865373 | ドライエッチング方法 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4865361 | ドライエッチング方法 | 2012年 2月 1日 |
547 件中 496-510 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4871761 4871618 4871615 4871027 4870603 4870450 4866808 4866176 4866141 4868796 4865204 4866045 4865421 4865373 4865361
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社日立ハイテクノロジーズの知財の動向チェックに便利です。
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
〒543-0014 大阪市天王寺区玉造元町2番32-1301 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒220-0004 横浜市西区北幸1-11-15 横浜STビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都江戸川区西葛西3-13-2-501 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング