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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第54位 709件
（
2011年：第52位 689件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第71位 547件
（
2011年：第98位 350件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5096835 | ＡＣＦ貼付け装置及びフラットパネルディスプレイの製造装置 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5094289 | プラズマ処理装置 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5090392 | ステージ装置 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5090725 | 異物検査装置 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5091620 | 評価対象パターン決定装置、評価対象パターン決定方法、評価対象パターン決定プログラムおよびパターン評価システム | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5086659 | 露光状態表示方法及びシステム | 2012年11月28日 | |
| 特許 5086908 | 電子顕微鏡 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084428 | アミノ酸分析方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5081590 | 欠陥観察分類方法及びその装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5081497 | プラズマ処理装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5081473 | 液体クロマトグラフ及び分離カラム | 2012年11月28日 | |
| 特許 5086105 | ガス電界電離イオン源 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5086818 | 電子顕微鏡装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5086206 | プラズマ処理装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5081276 | パターン計測装置、パターン計測方法、およびプログラム | 2012年11月28日 |
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5096835 5094289 5090392 5090725 5091620 5086659 5086908 5084428 5081590 5081497 5081473 5086105 5086818 5086206 5081276
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