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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第59位 716件
（
2012年：第54位 709件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第51位 717件
（
2012年：第71位 547件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5164748 | レーザ処理装置、太陽電池パネルの製造装置、太陽電池パネルおよびレーザ処理方法 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5167103 | 成膜装置 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5164761 | 有機ＥＬ用マスククリーニング装置、有機ＥＬディスプレイの製造装置および有機ＥＬ用マスククリーニング方法 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5166293 | 検体前処理システム | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5164621 | 質量分析装置、質量分析方法および質量分析用プログラム | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5164598 | レビュー方法、およびレビュー装置 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5164478 | イオントラップ飛行時間型質量分析装置 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5164589 | インプリント装置 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5166551 | 電子線装置およびそれを用いた電子線応用装置、並びに電子源加工方法 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5166545 | ステージ駆動装置 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5166315 | イオンビーム加工装置及び試料観察方法 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5166231 | プラズマ処置装置 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5164754 | 走査型荷電粒子顕微鏡装置及び走査型荷電粒子顕微鏡装置で取得した画像の処理方法 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5164355 | 荷電粒子ビームの走査方法及び荷電粒子線装置 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5164317 | 電子線による検査・計測方法および検査・計測装置 | 2013年 3月21日 |
717 件中 601-615 件を表示
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5164748 5167103 5164761 5166293 5164621 5164598 5164478 5164589 5166551 5166545 5166315 5166231 5164754 5164355 5164317
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