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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第52位 689件
（
2010年：第70位 624件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第98位 350件
（
2010年：第95位 307件）
（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4799324 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4801007 | 電気泳動装置及びそれに用いられるポンプ機構 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4800432 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4797005 | 表面検査方法及び表面検査装置 | 2011年10月19日 | |
| 特許 4794471 | 露光装置、及び露光装置の負圧室の天板を交換する方法 | 2011年10月19日 | |
| 特許 4795883 | パターン検査・計測装置 | 2011年10月19日 | |
| 特許 4795308 | 内部構造観察用及び電子顕微鏡用試料ホルダー | 2011年10月19日 | |
| 特許 4795146 | 電子ビーム装置，プローブ制御方法及びプログラム | 2011年10月19日 | |
| 特許 4795755 | 半導体基板の製造装置 | 2011年10月19日 | 共同出願 |
| 特許 4795847 | 電子レンズ及びそれを用いた荷電粒子線装置 | 2011年10月19日 | |
| 特許 4791141 | 電子線式寸法計測装置及びそれを用いた寸法計測方法 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4791333 | パターン寸法計測方法及び走査型透過荷電粒子顕微鏡 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4789651 | シミュレーション装置、シミュレーションプログラム及びシミュレーション方法 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4791267 | 欠陥検査システム | 2011年10月12日 | |
| 特許 4791840 | 荷電粒子線装置、走査電子顕微鏡、および試料検査方法 | 2011年10月12日 |
350 件中 76-90 件を表示
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4799324 4801007 4800432 4797005 4794471 4795883 4795308 4795146 4795755 4795847 4791141 4791333 4789651 4791267 4791840
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（オンライン参加可）体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする？～海外で商標権がバッティング？オープンファクトリーの知財リスク？～
2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 －自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法－ ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月17日(月) - 大阪 大阪市
（オンライン参加可）体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする？～海外で商標権がバッティング？オープンファクトリーの知財リスク？～
2月25日(火) -
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