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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第59位 716件
（
2012年：第54位 709件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第51位 717件
（
2012年：第71位 547件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5349352 | レーザ光状態検査方法及び装置、レーザ加工方法及び装置並びにソーラパネル製造方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5345443 | 露光装置、露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5342606 | 欠陥分類方法及びその装置 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5342378 | ディスクの突起検出・平坦度測定回路およびディスクのグライドテスター | 2013年11月13日 | |
| 特許 5341801 | 半導体ウェーハの外観検査方法及びその装置 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5341440 | 検査装置 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5340975 | 自動分析装置 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5341924 | 走査電子顕微鏡 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5343033 | 元素分析装置及び方法 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5341834 | 自動分析装置及び分注方法 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5339744 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板移動方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5341323 | 質量分析装置 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5339745 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5337639 | 半導体装置の製造検査装置、および半導体装置の製造検査装置の制御方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5335709 | コンクリート製軌道の軌道狂い測定方法および測定装置 | 2013年11月 6日 |
717 件中 91-105 件を表示
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5349352 5345443 5342606 5342378 5341801 5341440 5340975 5341924 5343033 5341834 5339744 5341323 5339745 5337639 5335709
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