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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第1466位 17件
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2012-247791 | 直線駆動装置、可変シャッター装置、ビーム成形装置、ビーム照射装置、欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法本発明は、直線駆動装置、可変シャッター装置、ビーム成形装置、及びビーム照射装置、並びにビーム成形装置を用いた欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法に関する。 | 2012年12月13日 | |
特開 2012-237687 | 基板検査装置及びマスク検査装置 | 2012年12月 6日 | |
特開 2012-235007 | 反り測定装置、及び反り測定方法 | 2012年11月29日 | |
特開 2012-235043 | EUVマスク検査装置、EUVマスク検査方法 | 2012年11月29日 | |
特開 2012-220388 | 検査装置及び欠陥検査方法 | 2012年11月12日 | |
特開 2012-173296 | 検査装置及び欠陥検査方法 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-174896 | 検査装置及び欠陥検査方法 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-164801 | 検査装置及び検査方法 | 2012年 8月30日 | |
特開 2012-154902 | 検査装置、及び検査方法 | 2012年 8月16日 | |
特開 2012-134372 | 汚染防止装置、汚染防止方法、露光装置、及びパターン付きウエハの製造方法 | 2012年 7月12日 | |
特開 2012-122834 | 電池用電極材の厚さ測定装置、及び厚さ測定方法 | 2012年 6月28日 | |
特開 2012-118162 | EUVマスク検査装置及びEUVマスク検査方法 | 2012年 6月21日 | |
特開 2012-118304 | EUVマスク検査装置 | 2012年 6月21日 | |
特開 2012-103379 | 共焦点顕微鏡、及び焦点位置調整方法 | 2012年 5月31日 | |
特開 2012-83117 | 検査装置 | 2012年 4月26日 |
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2012-247791 2012-237687 2012-235007 2012-235043 2012-220388 2012-173296 2012-174896 2012-164801 2012-154902 2012-134372 2012-122834 2012-118162 2012-118304 2012-103379 2012-83117
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2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月20日(木) - 東京 港区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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