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東京応化工業株式会社

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　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第259位　143件（2011年：第252位　139件）

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2012-230236	レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2012年11月22日
特開 2012-224586	化合物、高分子化合物、酸発生剤、レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2012年11月15日
特開 2012-222281	塗布装置	2012年11月12日
特開 2012-220571	レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2012年11月12日	共同出願
特開 2012-219236	相分離構造を有する層を表面に備える基板の製造方法	2012年11月12日	共同出願
特開 2012-220927	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物	2012年11月12日
特開 2012-220572	ネガ型現像用レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法	2012年11月12日
特開 2012-220824	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物	2012年11月12日
特開 2012-220570	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2012年11月12日
特開 2012-220782	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2012年11月12日
特開 2012-212118	感光性樹脂組成物及び液晶パネル	2012年11月 1日
特開 2012-203261	レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2012年10月22日
特開 2012-194380	レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2012年10月11日
特開 2012-189996	感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置	2012年10月 4日
特開 2012-188435	化合物の製造方法、新規化合物	2012年10月 4日

124 件中 16-30 件を表示

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2012-230236 2012-224586 2012-222281 2012-220571 2012-219236 2012-220927 2012-220572 2012-220824 2012-220570 2012-220782 2012-212118 2012-203261 2012-194380 2012-189996 2012-188435

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