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東京応化工業株式会社

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　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第266位　159件（2013年：第230位　206件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第204位　207件（2013年：第194位　216件）

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2014-214167	未焼成複合膜、ポリイミド−微粒子複合膜、及び多孔質ポリイミド膜の製造方法	2014年11月17日
特開 2014-209203	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物	2014年11月 6日
特開 2014-209167	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物	2014年11月 6日
特開 2014-200730	塗布装置及び塗布方法	2014年10月27日
特開 2014-202895	感光性樹脂組成物	2014年10月27日
特開 2014-199312	ポジ型レジスト組成物	2014年10月23日
特開 2014-199276	パターン形成方法、構造体、櫛型電極の製造方法、及び二次電池	2014年10月23日
特開 2014-199858	処理方法及び処理装置	2014年10月23日
特開 2014-197589	拡散剤組成物、不純物拡散層の形成方法および太陽電池	2014年10月16日
特開 2014-197168	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物	2014年10月16日
特開 2014-194986	基板の処理方法	2014年10月 9日
特開 2014-191060	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2014年10月 6日
特開 2014-191061	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2014年10月 6日
特開 2014-185311	下地剤及びパターン形成方法	2014年10月 2日
特開 2014-187327	基板の処理方法および基板の暫定支持用積層体	2014年10月 2日

159 件中 16-30 件を表示

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2014-214167 2014-209203 2014-209167 2014-200730 2014-202895 2014-199312 2014-199276 2014-199858 2014-197589 2014-197168 2014-194986 2014-191060 2014-191061 2014-185311 2014-187327

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