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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第333位 124件
(2011年:第366位 107件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第259位 143件
(2011年:第252位 139件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-189996 | 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置 | 2012年10月 4日 | |
特開 2012-191214 | 塗布装置及び塗布方法 | 2012年10月 4日 | |
特開 2012-188435 | 化合物の製造方法、新規化合物 | 2012年10月 4日 | |
特開 2012-182234 | 支持方法、これを用いた高温処理方法、及び支持治具 | 2012年 9月20日 | |
特開 2012-178549 | ケイ素含有膜形成組成物、不純物拡散層の形成方法および太陽電池 | 2012年 9月13日 | |
特開 2012-177774 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年 9月13日 | |
特開 2012-173496 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-173418 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-173419 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-173642 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-174718 | 複合酸化物膜形成用の塗布液、並びに当該塗布液を使用した複合酸化物膜の製造方法及び電界効果トランジスタの製造方法 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-170846 | 塗布装置 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-173417 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-168279 | EUV用レジスト組成物、EUV用レジスト組成物の製造方法、およびレジストパターン形成方法 | 2012年 9月 6日 | |
特開 2012-168335 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および高分子化合物 | 2012年 9月 6日 |
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2012-189996 2012-191214 2012-188435 2012-182234 2012-178549 2012-177774 2012-173496 2012-173418 2012-173419 2012-173642 2012-174718 2012-170846 2012-173417 2012-168279 2012-168335
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2月25日(火) -
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3月4日(火) -
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