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東京応化工業株式会社

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　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第366位　107件（2010年：第258位　187件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第252位　139件（2010年：第315位　98件）

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-136770	液体薬品の分配方法	2011年 7月14日
特開 2011-138003	ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2011年 7月14日
特開 2011-132322	感光性組成物、ハードコート材、及び画像表示装置	2011年 7月 7日
特開 2011-128610	パターン形成方法	2011年 6月30日
特開 2011-128226	ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2011年 6月30日
特開 2011-126606	液体薬品用ペール缶	2011年 6月30日
特開 2011-123463	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物	2011年 6月23日
特開 2011-122137	表面処理剤及び表面処理方法	2011年 6月23日
特開 2011-118101	リソグラフィー用洗浄液及び配線形成方法	2011年 6月16日
特開 2011-116953	マスク材組成物、不純物拡散層の形成方法、および太陽電池	2011年 6月16日
特開 2011-117987	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2011年 6月16日
特開 2011-118123	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2011年 6月16日
特開 2011-118416	液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 6月16日
特開 2011-112944	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2011年 6月 9日
特開 2011-113034	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2011年 6月 9日

107 件中 46-60 件を表示

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2011-136770 2011-138003 2011-132322 2011-128610 2011-128226 2011-126606 2011-123463 2011-122137 2011-118101 2011-116953 2011-117987 2011-118123 2011-118416 2011-112944 2011-113034

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