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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第333位 124件
(2011年:第366位 107件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第259位 143件
(2011年:第252位 139件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-168504 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年 9月 6日 | |
特開 2012-168335 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および高分子化合物 | 2012年 9月 6日 | |
特開 2012-168334 | レジストパターン形成方法 | 2012年 9月 6日 | |
特開 2012-156553 | サポートプレートの処理方法 | 2012年 8月16日 | |
特開 2012-152938 | 積層体 | 2012年 8月16日 | |
特開 2012-150166 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 | 2012年 8月 9日 | |
特開 2012-144728 | レジスト用樹脂 | 2012年 8月 2日 | 共同出願 |
特開 2012-145699 | タッチパネル用着色感光性樹脂組成物、タッチパネル、及び表示装置 | 2012年 8月 2日 | |
特開 2012-145868 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2012年 8月 2日 | |
特開 2012-141371 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年 7月26日 | |
特開 2012-137735 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2012年 7月19日 | |
特開 2012-137741 | 厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 | 2012年 7月19日 | |
特開 2012-135725 | 塗布装置及び塗布方法 | 2012年 7月19日 | |
特開 2012-138481 | 塗布装置及び塗布方法 | 2012年 7月19日 | |
特開 2012-133395 | レジストパターン形成方法 | 2012年 7月12日 |
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2012-168504 2012-168335 2012-168334 2012-156553 2012-152938 2012-150166 2012-144728 2012-145699 2012-145868 2012-141371 2012-137735 2012-137741 2012-135725 2012-138481 2012-133395
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2月27日(木) - 東京 港区
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2月25日(火) -
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3月4日(火) -
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3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
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