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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第333位 124件
(2011年:第366位 107件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第259位 143件
(2011年:第252位 139件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-102337 | 新規な化合物 | 2012年 5月31日 | |
特開 2012-104721 | 拡散剤組成物および不純物拡散層の形成方法 | 2012年 5月31日 | |
特開 2012-98390 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 | 2012年 5月24日 | |
特開 2012-92283 | 接着剤組成物 | 2012年 5月17日 | |
特開 2012-88658 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2012年 5月10日 | |
特開 2012-87143 | 化合物 | 2012年 5月10日 | |
特開 2012-88449 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年 5月10日 | |
特開 2012-88448 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年 5月10日 | |
特開 2012-89605 | 接着剤積層体、接着フィルム及び接着方法 | 2012年 5月10日 | |
特開 2012-81428 | 塗布装置及び塗布方法 | 2012年 4月26日 | |
特開 2012-83385 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年 4月26日 | |
特開 2012-76045 | 塗布装置 | 2012年 4月19日 | |
特開 2012-78663 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2012年 4月19日 | |
特開 2012-78864 | ポジ型レジスト組成物 | 2012年 4月19日 | |
特開 2012-73564 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2012年 4月12日 |
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2012-102337 2012-104721 2012-98390 2012-92283 2012-88658 2012-87143 2012-88449 2012-88448 2012-89605 2012-81428 2012-83385 2012-76045 2012-78663 2012-78864 2012-73564
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2月22日(土) - 東京 板橋区
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2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
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2月25日(火) -
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