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株式会社日立ハイテクサイエンス
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第986位 28件
（
2013年：第1169位 25件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1008位 28件
（2013年：第1072位 26件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクサイエンスの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-185951 | 蛍光Ｘ線分析装置 | 2014年10月 2日 | |
| 特開 2014-185740 | 継手管 | 2014年10月 2日 | |
| 特開 2014-186896 | 集束イオンビーム装置、それを用いた試料の加工方法、及び集束イオンビームを用いた試料の加工コンピュータプログラム | 2014年10月 2日 | |
| 特開 2014-186894 | 集束イオンビーム装置 | 2014年10月 2日 | |
| 特開 2014-182057 | ＩＣＰ発光分光分析装置 | 2014年 9月29日 | |
| 特開 2014-116292 | 断面加工観察方法及び装置 | 2014年 6月26日 | |
| 特開 2014-62913 | 蛍光Ｘ線分析装置 | 2014年 4月10日 | 共同出願 |
| 特開 2014-63726 | 複合荷電粒子ビーム装置及び薄片試料加工方法 | 2014年 4月10日 | |
| 特開 2014-59230 | 結晶解析装置、複合荷電粒子ビーム装置及び結晶解析方法 | 2014年 4月 3日 | |
| 特開 2014-44075 | 走査型プローブ顕微鏡 | 2014年 3月13日 | |
| 特開 2014-38074 | 放射線分析装置及び方法 | 2014年 2月27日 | |
| 特開 2014-35334 | 蛍光Ｘ線分析方法及び蛍光Ｘ線分析装置 | 2014年 2月24日 | |
| 特開 2014-9961 | ＩＣＰ装置及び分光分析装置並びに質量分析装置 | 2014年 1月20日 |
28 件中 16-28 件を表示
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2014-185951 2014-185740 2014-186896 2014-186894 2014-182057 2014-116292 2014-62913 2014-63726 2014-59230 2014-44075 2014-38074 2014-35334 2014-9961
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