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株式会社日立ハイテクサイエンス
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第986位 28件
（
2013年：第1169位 25件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1008位 28件
（2013年：第1072位 26件）
（ランキング更新日：2025年3月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクサイエンスの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5553300 | 蛍光Ｘ線検査装置及び蛍光Ｘ線検査方法 | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5524663 | 蛍光Ｘ線膜厚計及び蛍光Ｘ線膜厚測定法 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5506288 | 蛍光Ｘ線分析装置 | 2014年 5月28日 | 共同出願 |
| 特許 5481321 | 蛍光Ｘ線分析装置及び蛍光Ｘ線分析方法 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5461917 | 軟化点測定装置および熱伝導測定装置 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5461924 | Ｘ線分析装置及びＸ線分析方法 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5448971 | 荷電粒子ビーム装置、チップ再生方法、及び試料観察方法 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5442572 | 荷電粒子ビーム装置、薄膜作製方法、欠陥修正方法及びデバイス作製方法 | 2014年 3月12日 | 共同出願 |
| 特許 5432028 | 集束イオンビーム装置、チップ先端構造検査方法及びチップ先端構造再生方法 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5436527 | 荷電粒子ビーム装置 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5410786 | 集束イオンビーム装置 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5410975 | 複合集束イオンビーム装置及びそれを用いた加工観察方法 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5410880 | 摩擦力測定方法および摩擦力測定装置 | 2014年 2月 5日 |
28 件中 16-28 件を表示
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5553300 5524663 5506288 5481321 5461917 5461924 5448971 5442572 5432028 5436527 5410786 5410975 5410880
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