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株式会社日立ハイテクサイエンス

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  2018年 出願公開件数ランキング    第838位 33件 上昇2017年:第982位 31件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第744位 29件 下降2017年:第724位 32件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6441702 イオン源、イオンビーム装置および試料の加工方法 2018年12月19日
特許 6422791 X線分析装置 2018年11月14日
特許 6423222 荷電粒子ビーム装置 2018年11月14日
特許 6382495 荷電粒子ビーム装置 2018年 8月29日
特許 6366657 発生ガス分析装置及び発生ガス分析方法 2018年 8月 1日
特許 6366767 プラスチック標準物質の製造方法 2018年 8月 1日
特許 6355318 断面加工観察方法及び装置 2018年 7月11日
特許 6349429 集束イオンビーム装置及び断面加工観察方法 2018年 6月27日
特許 6346036 蛍光X線分析装置及びその測定位置調整方法 2018年 6月20日
特許 6335433 ICP発光分光分析装置 2018年 5月30日
特許 6327617 荷電粒子ビーム装置 2018年 5月23日
特許 6328451 蛍光X線分析装置及びその制御方法 2018年 5月23日
特許 6328456 エネルギー分散型X線分析装置及びエネルギー分散型X線分析方法 2018年 5月23日
特許 6328460 走査型プローブ顕微鏡 2018年 5月23日
特許 6324060 X線分析装置 2018年 5月16日

29 件中 1-15 件を表示

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6441702 6422791 6423222 6382495 6366657 6366767 6355318 6349429 6346036 6335433 6327617 6328451 6328456 6328460 6324060

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