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株式会社日立ハイテクサイエンス
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第838位 33件
（
2017年：第982位 31件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第744位 29件
（
2017年：第724位 32件）
（ランキング更新日：2025年3月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクサイエンスの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6441702 | イオン源、イオンビーム装置および試料の加工方法 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6422791 | Ｘ線分析装置 | 2018年11月14日 | |
| 特許 6423222 | 荷電粒子ビーム装置 | 2018年11月14日 | |
| 特許 6382495 | 荷電粒子ビーム装置 | 2018年 8月29日 | |
| 特許 6366657 | 発生ガス分析装置及び発生ガス分析方法 | 2018年 8月 1日 | |
| 特許 6366767 | プラスチック標準物質の製造方法 | 2018年 8月 1日 | |
| 特許 6355318 | 断面加工観察方法及び装置 | 2018年 7月11日 | |
| 特許 6349429 | 集束イオンビーム装置及び断面加工観察方法 | 2018年 6月27日 | |
| 特許 6346036 | 蛍光Ｘ線分析装置及びその測定位置調整方法 | 2018年 6月20日 | |
| 特許 6335433 | ＩＣＰ発光分光分析装置 | 2018年 5月30日 | |
| 特許 6327617 | 荷電粒子ビーム装置 | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6328451 | 蛍光Ｘ線分析装置及びその制御方法 | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6328456 | エネルギー分散型Ｘ線分析装置及びエネルギー分散型Ｘ線分析方法 | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6328460 | 走査型プローブ顕微鏡 | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6324060 | Ｘ線分析装置 | 2018年 5月16日 |
29 件中 1-15 件を表示
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6441702 6422791 6423222 6382495 6366657 6366767 6355318 6349429 6346036 6335433 6327617 6328451 6328456 6328460 6324060
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