特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社日立ハイテクサイエンス

※ ログインすれば出願人(株式会社日立ハイテクサイエンス)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第982位　31件（2016年：第782位　38件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第724位　32件（2016年：第808位　29件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

株式会社日立ハイテクサイエンスの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6250294	集束イオンビーム装置、それを用いた試料の断面観察方法、及び集束イオンビームを用いた試料の断面観察用コンピュータプログラム	2017年12月20日
特許 6250331	複合荷電粒子ビーム装置及び薄片試料加工方法	2017年12月20日
特許 6246113	熱分析装置	2017年12月13日
特許 6239401	荷電粒子ビーム装置	2017年11月29日
特許 6236480	エミッタの作製方法	2017年11月22日
特許 6226781	集束イオンビーム装置、それを用いた試料の加工方法、及び集束イオンビーム加工用コンピュータプログラム	2017年11月 8日
特許 6222805	荷電粒子ビーム装置および観察像形成方法	2017年11月 1日
特許 6218656	荷電粒子ビーム装置	2017年10月25日
特許 6219760	ＩＣＰ発光分光分析装置	2017年10月25日
特許 6220306	カンチレバーの振動特性測定方法及び振動特性測定プログラム	2017年10月25日
特許 6212416	熱分析装置用撮像装置、及びそれを備えた熱分析装置	2017年10月11日
特許 6207081	集束イオンビーム装置	2017年10月 4日
特許 6165643	荷電粒子ビーム装置、荷電粒子ビーム装置の制御方法及び断面加工観察装置	2017年 7月19日
特許 6126425	集束イオンビーム装置及びその制御方法	2017年 5月10日
特許 6121767	集束イオンビーム装置、及び集束イオンビームの照射方法	2017年 4月26日

32 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6250294 6250331 6246113 6239401 6236480 6226781 6222805 6218656 6219760 6220306 6212416 6207081 6165643 6126425 6121767

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社日立ハイテクサイエンスの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数