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株式会社日立ハイテクサイエンス
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第782位 38件
（
2015年：第771位 39件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第808位 29件
（
2015年：第907位 23件）
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株式会社日立ハイテクサイエンスの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6055348 | ＩＣＰ発光分光分析装置を用いた分析方法 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6049991 | 複合荷電粒子ビーム装置 | 2016年12月21日 | |
| 特許 6033556 | Ｘ線検査装置及びＸ線検査方法 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6026936 | 異物検出装置 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6009862 | 走査型プローブ顕微鏡 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6001292 | エミッタの作製方法 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6001728 | 変位検出機構およびそれを用いた走査型プローブ顕微鏡 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 5989959 | 集束イオンビーム装置 | 2016年 9月 7日 | |
| 特許 5990016 | 断面加工観察装置 | 2016年 9月 7日 | |
| 特許 5986408 | 試料作製方法 | 2016年 9月 6日 | |
| 特許 5981744 | 試料観察方法、試料作製方法及び荷電粒子ビーム装置 | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5969229 | 集束イオンビーム装置およびイオンビーム光学系の調整方法 | 2016年 8月17日 | |
| 特許 5969233 | 断面加工観察方法及び装置 | 2016年 8月17日 | |
| 特許 5965743 | ＩＣＰ装置及び分光分析装置並びに質量分析装置 | 2016年 8月10日 | |
| 特許 5956730 | Ｘ線分析装置及び方法 | 2016年 7月27日 |
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6055348 6049991 6033556 6026936 6009862 6001292 6001728 5989959 5990016 5986408 5981744 5969229 5969233 5965743 5956730
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