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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第621位 55件
(2010年:第1125位 27件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第785位 36件
(2010年:第922位 25件)
(ランキング更新日:2025年5月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-243985 | 半導体上に電流トラックを形成する方法 | 2011年12月 1日 | |
特開 2011-241396 | セレン/第3A族インク、並びにその製造方法および使用方法 | 2011年12月 1日 | |
特開 2011-241397 | 第6A族/第3A族インク、並びにその製造方法および使用方法 | 2011年12月 1日 | |
特開 2011-231104 | 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2011年11月17日 | |
特開 2011-227454 | 窒素含有化合物を含むフォトレジスト | 2011年11月10日 | |
特開 2011-227448 | フォトレジストおよびその使用方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-227465 | フォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-219456 | コラート光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2011年11月 4日 | |
特開 2011-215619 | 新規のポリマーおよびフォトレジスト組成物 | 2011年10月27日 | |
特開 2011-215647 | フェノール/脂環式コポリマーおよびフォトレジスト | 2011年10月27日 | |
特開 2011-213717 | めっき浴および方法 | 2011年10月27日 | |
特開 2011-207878 | めっき浴および方法 | 2011年10月20日 | |
特開 2011-205098 | 薄膜太陽電池 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-205058 | 半導体基体をテクスチャ化する改良された方法 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-190260 | めっき浴および方法 | 2011年 9月29日 |
55 件中 1-15 件を表示
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2011-243985 2011-241396 2011-241397 2011-231104 2011-227454 2011-227448 2011-227465 2011-219456 2011-215619 2011-215647 2011-213717 2011-207878 2011-205098 2011-205058 2011-190260
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