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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第514位 67件
(2013年:第573位 66件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第831位 35件
(2013年:第874位 34件)
(ランキング更新日:2025年2月17日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2014-152332 | 誘導自己組織化共重合組成物および関連方法 | 2014年 8月25日 | 共同出願 |
特開 2014-152331 | ブロック共重合体配合物およびそれに関する方法 | 2014年 8月25日 | 共同出願 |
特開 2014-150239 | 一時的結合 | 2014年 8月21日 | |
特開 2014-146590 | パターン形成された透明導電体を製造する方法 | 2014年 8月14日 | |
特開 2014-140893 | プリフラックスおよび方法 | 2014年 8月 7日 | |
特開 2014-142620 | 酸発生剤および同剤を含むフォトレジスト | 2014年 8月 7日 | |
特開 2014-143415 | イオン注入法 | 2014年 8月 7日 | |
特開 2014-142634 | フォトレジストパターントリミング方法 | 2014年 8月 7日 | |
特開 2014-141455 | 低温適用のためのイオン性熱酸発生剤 | 2014年 8月 7日 | |
特開 2014-131998 | 樹状化合物、フォトレジスト組成物、および電子デバイスを作製する方法 | 2014年 7月17日 | |
特開 2014-132553 | 高結晶質導電性ポリマー、その製造方法およびそれを含む物品 | 2014年 7月17日 | 共同出願 |
特開 2014-129598 | ホルムアルデヒドを含まない無電解銅めっき組成物および方法 | 2014年 7月10日 | |
特開 2014-128786 | 接着促進剤 | 2014年 7月10日 | |
特開 2014-122204 | 光酸発生化合物およびそれを含むフォトレジスト組成物、そのフォトレジストを含むコーティングされた物品、並びに物品を製造する方法 | 2014年 7月 3日 | |
特開 2014-122319 | メタルハードマスクの除去のための方法および組成物 | 2014年 7月 3日 |
67 件中 16-30 件を表示
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2014-152332 2014-152331 2014-150239 2014-146590 2014-140893 2014-142620 2014-143415 2014-142634 2014-141455 2014-131998 2014-132553 2014-129598 2014-128786 2014-122204 2014-122319
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