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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第514位 67件 (2013年:第573位 66件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第831位 35件 (2013年:第874位 34件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2014-16612 | アミド成分を含むフォトレジスト | 2014年 1月30日 | |
特開 2014-17482 | 半導体を金属めっきする改良された方法 | 2014年 1月30日 | |
特開 2014-12828 | ポリマー組成物、このポリマー組成物を含むフォトレジスト、およびこのフォトレジストを含むコーティングされた物品 | 2014年 1月23日 | 共同出願 |
特開 2014-13895 | 入射光反射率を低減させるための単結晶半導体基体のテクスチャ化 | 2014年 1月23日 | |
特開 2014-5270 | 光酸発生剤、この光酸発生剤を含むフォトレジスト、およびこれを含むコーティングされた物品 | 2014年 1月16日 | |
特開 2014-5540 | 多結晶性モノリシックアルミン酸マグネシウムスピネル | 2014年 1月16日 | |
特開 2014-1447 | 金属接着を向上させる活性化方法 | 2014年 1月 9日 |
67 件中 61-67 件を表示
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2014-16612 2014-17482 2014-12828 2014-13895 2014-5270 2014-5540 2014-1447
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