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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第260位 156件
（
2010年：第335位 133件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第403位 82件
（
2010年：第188位 176件）
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4728089 | シート状プラズマ発生装置および成膜装置 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4728405 | 表面処理装置 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4724871 | 磁気抵抗素子を用いた増幅装置 | 2011年 7月13日 | 共同出願 |
| 特許 4721794 | 微細構造物の作製方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4723678 | 金属埋め込み方法及び凹部に金属を堆積させるための装置 | 2011年 7月13日 | 共同出願 |
| 特許 4721878 | スパッタリング装置 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4719337 | 可動シールド機構を備えたエッチングチャンバー | 2011年 7月 6日 | 共同出願 |
| 特許 4719195 | スパッタリング方法 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4711543 | 放電を利用した処理装置における放電検出の方法と装置 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4714208 | 発熱体ＣＶＤ装置及び成膜方法 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4713747 | 薄膜形成装置 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4700714 | マスク、該マスクを用いた成膜装置、及び、該マスクを用いた成膜方法 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4698055 | 高周波マグネトロンスパッタリング装置 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4698625 | プラズマ処理装置 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4697833 | 静電吸着機構及び表面処理装置 | 2011年 6月 8日 | 共同出願 |
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4728089 4728405 4724871 4721794 4723678 4721878 4719337 4719195 4711543 4714208 4713747 4700714 4698055 4698625 4697833
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