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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第260位 156件
（
2010年：第335位 133件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第403位 82件
（
2010年：第188位 176件）
（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4652841 | 真空処理装置における水素原子発生源及び水素原子輸送方法 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4650919 | ＣＶＤ装置 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4646066 | 真空処理装置 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4642156 | 真空排気システム、真空排気システムの運転方法、冷凍機、冷凍機の運転方法、基板処理装置、電子デバイスの製造方法 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4632590 | 基板搬送システム及び基板処理装置 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4634581 | スパッタリング方法、表面処理方法、スパッタリング装置及び表面処理装置 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4634592 | 薄膜成膜液体原料用気化器 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4634572 | 銅薄膜形成方法 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4627916 | イオン化装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4627835 | スパッタリング装置及び薄膜形成方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4623837 | マグネトロンスパッタリング装置 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4623479 | マルチチャンバシステムのチャンバグループ化制御システム | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4617364 | 基板加熱装置及び処理方法 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4620879 | 基板温度制御機構及び真空処理装置 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4619450 | 真空薄膜形成加工装置 | 2011年 1月26日 |
82 件中 61-75 件を表示
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4652841 4650919 4646066 4642156 4632590 4634581 4634592 4634572 4627916 4627835 4623837 4623479 4617364 4620879 4619450
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