特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キヤノンアネルバ株式会社

※ ログインすれば出願人(キヤノンアネルバ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第870位　33件（2013年：第724位　46件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第412位　88件（2013年：第654位　50件）

（ランキング更新日：2025年2月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5462364	電力導入装置及び電力導入装置を用いた真空処理装置	2014年 4月 2日
特許 5457216	基板支持装置及び基板搬送装置、電気デバイスの製造方法	2014年 4月 2日
特許 5451374	検査システム、検査装置、および検査方法	2014年 3月26日
特許 5451360	質量分析装置及び質量分析方法	2014年 3月26日
特許 5451895	基板処理装置	2014年 3月26日
特許 5443590	スパッタリング装置及び電子デバイスの製造方法	2014年 3月19日
特許 5444460	エピタキシャル膜形成方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置	2014年 3月19日
特許 5431901	インライン真空処理装置、インライン真空処理装置の制御方法、情報記録媒体の製造方法	2014年 3月 5日
特許 5429802	真空アーク蒸着装置	2014年 2月26日
特許 5425616	スパッタ成膜装置および膜の製造方法	2014年 2月26日
特許 5425547	基板処理装置、及び磁気記録媒体の製造方法	2014年 2月26日
特許 5429796	マスク位置合わせ機構及びマスク位置合わせ方法並びに真空処理装置	2014年 2月26日
特許 5415781	真空処理装置および真空処理装置の制御方法	2014年 2月12日
特許 5415979	スパッタリング装置及び二重回転シャッタユニット並びにスパッタリング方法	2014年 2月12日
特許 5406067	トレイ及び真空処理装置	2014年 2月 5日

88 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5462364 5457216 5451374 5451360 5451895 5443590 5444460 5431901 5429802 5425616 5425547 5429796 5415781 5415979 5406067

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キヤノンアネルバ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数