ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2011年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
(2010年:第57位 692件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
(2010年:第39位 580件)
(ランキング更新日:2025年6月6日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-187570 | 超臨界処理装置及び超臨界処理方法 | 2011年 9月22日 | 共同出願 |
特開 2011-185394 | 溝用シール材 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187490 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187664 | センサ故障検知方法、センサ故障検知装置、及び、プログラム | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187928 | 基板処理方法 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187752 | 加熱装置及びアニール装置 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187934 | 成膜方法、成膜装置、および成膜装置の使用方法 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187975 | 塗布、現像装置 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187758 | 温度制御システム、温度制御方法、プラズマ処理装置及びコンピュータ記憶媒体 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187576 | 割れ検出装置、処理装置及び割れ検出方法 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187583 | 半導体装置の製造方法 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187503 | 自動整合方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体、自動整合装置及びプラズマ処理装置 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187806 | 基板処理装置、基板処理方法、およびこの基板処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187910 | 搬送機構 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187799 | 表面平坦化方法 | 2011年 9月22日 |
621 件中 136-150 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2011-187570 2011-185394 2011-187490 2011-187664 2011-187928 2011-187752 2011-187934 2011-187975 2011-187758 2011-187576 2011-187583 2011-187503 2011-187806 2011-187910 2011-187799
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
6月6日(金) -
6月6日(金) -
6月10日(火) -
6月10日(火) -
6月11日(水) -
6月11日(水) -
6月12日(木) -
6月12日(木) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月10日(火) -
〒130-0022 東京都墨田区江東橋4-24-5 協新ビル402 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
愛知県名古屋市中区丸の内二丁目8番11号 セブン丸の内ビル6階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒063-0811 札幌市西区琴似1条4丁目3-18紀伊国屋ビル3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 コンサルティング