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東京エレクトロン株式会社

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 ■ 2024年 出願公開件数ランキング    第27位 725件 (上昇2023年:第31位 722件)

 ■ 2024年 特許取得件数ランキング    第25位 801件 (上昇2023年:第32位 760件)

(ランキング更新日:2026年10月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-180612 プラズマ処理装置 2024年12月26日
特開 2024-178921 プラズマ処理装置 2024年12月25日
特開 2024-178682 基板処理装置及び装置状態推定方法 2024年12月25日
特開 2024-178388 基板処理装置及び基板処理方法 2024年12月24日
特開 2024-176225 プラズマ処理装置 2024年12月19日
特開 2024-176079 基板処理方法及び基板処理装置 2024年12月19日
特開 2024-176085 ステージ構造体、基板処理装置及び温度制御方法 2024年12月19日
特開 2024-176159 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 2024年12月19日
特開 2024-176244 基板検査装置、基板検査方法及び記憶媒体 2024年12月19日
特開 2024-176253 配管加工装置及び配管加工方法 2024年12月19日
特開 2024-177380 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2024年12月19日
特開 2024-177522 基板処理方法、基板処理装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2024年12月19日
特開 2024-177528 基板処理方法及びプラズマ処理装置 2024年12月19日
特開 2024-175447 リモートプラズマ装置及びプラズマ処理装置 2024年12月18日
特開 2024-174920 基板処理装置及び載置台 2024年12月17日

730 件中 1-15 件を表示

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2024-180612 2024-178921 2024-178682 2024-178388 2024-176225 2024-176079 2024-176085 2024-176159 2024-176244 2024-176253 2024-177380 2024-177522 2024-177528 2024-175447 2024-174920

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