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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-181631 | 表面活性化方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び表面活性化装置 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-179971 | 物性測定装置、物性測定方法、薄膜基板製造システム及びプログラム | 2011年 9月15日 | 共同出願 |
| 特開 2011-181689 | アニール装置、アニール方法及び薄膜基板製造システム | 2011年 9月15日 | 共同出願 |
| 特開 2011-181677 | フォーカスリング及び基板載置システム | 2011年 9月15日 | 共同出願 |
| 特開 2011-181808 | 液処理装置及び液処理方法 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-181766 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-178635 | 成膜装置、システム及び成膜方法 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-181903 | アモルファスカーボン膜を含む積層構造を形成する方法及び装置 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-181578 | 半導体製造装置の処理チャンバ内パーツの加熱方法及び半導体製造装置 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-182046 | 自動整合装置及びプラズマ処理装置 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-180015 | パーティクル数計測方法 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-181632 | 接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-181633 | 接合装置 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-181926 | 酸化表面層のハイブリッドその場ドライクリーニングプロセス | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-181693 | 熱処理装置、熱処理方法及び記憶媒体 | 2011年 9月15日 |
621 件中 151-165 件を表示
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2011-181631 2011-179971 2011-181689 2011-181677 2011-181808 2011-181766 2011-178635 2011-181903 2011-181578 2011-182046 2011-180015 2011-181632 2011-181633 2011-181926 2011-181693
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