特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第58位　686件（2013年：第60位　712件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第48位　694件（2013年：第45位　796件）

（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-179598	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2014年 9月25日
特開 2014-179658	原料供給装置及び成膜装置	2014年 9月25日
特開 2014-179378	液処理装置および液処理方法	2014年 9月25日
特開 2014-178071	熱処理装置の異常検知装置、熱処理装置及び熱処理装置の異常検知方法、並びに、異常検知方法のプログラム	2014年 9月25日
特開 2014-179508	基板処理装置及び基板処理方法	2014年 9月25日
特開 2014-175581	基板液処理装置および気流異常検出方法	2014年 9月22日
特開 2014-175051	マイクロ波導波装置、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2014年 9月22日	共同出願
特開 2014-172696	ホッパー及び溶射装置	2014年 9月22日
特開 2014-175510	支持部材及び半導体製造装置	2014年 9月22日
特開 2014-175532	基板処理装置及び基板処理方法	2014年 9月22日
特開 2014-175357	基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム	2014年 9月22日
特開 2014-175608	基板搬送装置、基板処理装置、基板取出方法および記憶媒体	2014年 9月22日
特開 2014-175358	基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム	2014年 9月22日
特開 2014-175521	プラズマエッチング方法	2014年 9月22日
特開 2014-175355	半導体装置の製造方法	2014年 9月22日

685 件中 151-165 件を表示

... 11

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-179598 2014-179658 2014-179378 2014-178071 2014-179508 2014-175581 2014-175051 2014-172696 2014-175510 2014-175532 2014-175357 2014-175608 2014-175358 2014-175521 2014-175355

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数