特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第53位　714件（2011年：第62位　621件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第37位　902件（2011年：第41位　739件）

（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2012-195444	液処理装置、液処理方法および記憶媒体	2012年10月11日
特開 2012-195463	プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法	2012年10月11日
特開 2012-195385	液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体	2012年10月11日
特開 2012-195347	熱処理装置	2012年10月11日
特開 2012-195384	液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体	2012年10月11日
特開 2012-195569	半導体装置の製造方法及びコンピュータ記録媒体	2012年10月11日
特開 2012-195576	プラズマエッチング方法及び半導体装置の製造方法並びにコンピュータ記憶媒体	2012年10月11日
特開 2012-189401	処理液用流量計	2012年10月 4日	共同出願
特開 2012-190285	生産効率化装置、生産効率化方法、コンピュータプログラム	2012年10月 4日	共同出願
特開 2012-191156	配線の形成方法および形成装置	2012年10月 4日	共同出願
特開 2012-190868	２流体ノズル、基板液処理装置、基板液処理方法、及び基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2012年10月 4日
特開 2012-191142	基板搬送装置及び基板搬送方法	2012年10月 4日
特開 2012-191215	基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体	2012年10月 4日
特開 2012-191128	エッチング方法、エッチング装置およびコンピュータ読み取り可能な記憶媒体	2012年10月 4日
特開 2012-191158	マイクロ波照射装置	2012年10月 4日

714 件中 196-210 件を表示

... 14

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-195444 2012-195463 2012-195385 2012-195347 2012-195384 2012-195569 2012-195576 2012-189401 2012-190285 2012-191156 2012-190868 2012-191142 2012-191215 2012-191128 2012-191158

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数