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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
(2013年:第60位 712件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
(2013年:第45位 796件)
(ランキング更新日:2025年5月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2014-157458 | 基板処理装置、シミュレーション装置、プログラムおよびシミュレーション方法 | 2014年 8月28日 | |
特表 2014-521350 | 電場印加装置を用いて組織を構築するシステム及び方法 | 2014年 8月28日 | 共同出願 |
特開 2014-157870 | ZnO含有膜成長用の原料供給源、ZnO含有膜の製造装置、製造方法及びZnO含有膜を含む発光素子 | 2014年 8月28日 | 共同出願 |
特開 2014-157986 | 現像処理方法、現像処理装置及び現像処理用記録媒体 | 2014年 8月28日 | |
特開 2014-157929 | 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム。 | 2014年 8月28日 | |
特開 2014-157863 | 金属ペースト充填方法及び金属ペースト充填装置 | 2014年 8月28日 | |
特開 2014-158005 | 多層膜をエッチングする方法 | 2014年 8月28日 | |
特開 2014-158016 | ロール状体の収容容器、基材処理システム、基材処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年 8月28日 | |
特開 2014-154682 | 重合膜成膜装置のクリーニング方法および重合膜成膜装置 | 2014年 8月25日 | |
特開 2014-151249 | 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置及び記憶媒体 | 2014年 8月25日 | |
特開 2014-154814 | 液処理装置 | 2014年 8月25日 | |
特開 2014-154827 | 半導体製造装置及び半導体製造装置の制御装置 | 2014年 8月25日 | |
特開 2014-152833 | ガス導入配管接続構造及びこれを用いた熱処理装置 | 2014年 8月25日 | |
特開 2014-154717 | 半導体製造装置及び半導体製造装置の制御装置 | 2014年 8月25日 | |
特開 2014-154751 | ガス供給系及び成膜装置 | 2014年 8月25日 |
685 件中 196-210 件を表示
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2014-157458 2014-521350 2014-157870 2014-157986 2014-157929 2014-157863 2014-158005 2014-158016 2014-154682 2014-151249 2014-154814 2014-154827 2014-152833 2014-154717 2014-154751
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5月30日(金) -
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6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
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