特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第58位　686件（2013年：第60位　712件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第48位　694件（2013年：第45位　796件）

（ランキング更新日：2025年2月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2014-154684	誘導結合プラズマ処理装置	2014年 8月25日
特開 2014-154751	ガス供給系及び成膜装置	2014年 8月25日
特開 2014-154682	重合膜成膜装置のクリーニング方法および重合膜成膜装置	2014年 8月25日
特開 2014-154720	被処理体保持部材、搬送装置及び処理装置	2014年 8月25日
特開 2014-150227	基板搬送装置	2014年 8月21日
特開 2014-150064	プラズマ処理装置	2014年 8月21日
特開 2014-150288	接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2014年 8月21日
特開 2014-150144	原料ガス供給装置、成膜装置、原料の供給方法及び記憶媒体	2014年 8月21日
特開 2014-150104	載置台及びプラズマ処理装置	2014年 8月21日
特開 2014-150132	有機半導体デバイスの製造方法及びその製造装置	2014年 8月21日
特開 2014-150266	接合装置及び接合システム	2014年 8月21日
特開 2014-146828	成膜方法、成膜装置、および成膜装置の使用方法	2014年 8月14日
特開 2014-146826	薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法、及び、薄膜形成装置	2014年 8月14日
特開 2014-146670	成膜方法及び成膜装置	2014年 8月14日
特開 2014-145111	成膜装置	2014年 8月14日

685 件中 211-225 件を表示

... 15

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-154684 2014-154751 2014-154682 2014-154720 2014-150227 2014-150064 2014-150288 2014-150144 2014-150104 2014-150132 2014-150266 2014-146828 2014-146826 2014-146670 2014-145111

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数