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東京エレクトロン株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第53位 714件 上昇2011年:第62位 621件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第37位 902件 上昇2011年:第41位 739件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-186244 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、接合装置及び接合システム 2012年 9月27日
特開 2012-186457 上部電極及びプラズマ処理装置 2012年 9月27日
特開 2012-186221 エッチング方法、エッチング装置および記憶媒体 2012年 9月27日
特開 2012-186197 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2012年 9月27日
特開 2012-186220 基板処理方法、基板処理装置及び記憶媒体 2012年 9月27日
特開 2012-186223 プラズマ処理装置 2012年 9月27日
特開 2012-186375 プラズマ処理方法、膜形成方法、半導体デバイスの製造方法及びプラズマ処理装置 2012年 9月27日
特開 2012-186367 熱処理装置 2012年 9月27日
再表 2010-110256 チューナおよびマイクロ波プラズマ源 2012年 9月27日
特開 2012-182310 熱処理装置およびその制御方法 2012年 9月20日
特開 2012-182308 浮上式塗布装置 2012年 9月20日
特表 2012-522379 低減された等価酸化膜厚を有する高誘電率ゲートスタックの形成方法 2012年 9月20日
特開 2012-182474 半導体装置の製造方法及び記憶媒体 2012年 9月20日
特開 2012-182393 基板搬送装置の位置調整方法、及び基板処理装置 2012年 9月20日
特開 2012-182507 基板洗浄装置 2012年 9月20日

714 件中 226-240 件を表示

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2012-186244 2012-186457 2012-186221 2012-186197 2012-186220 2012-186223 2012-186375 2012-186367 2010-110256 2012-182310 2012-182308 2012-522379 2012-182474 2012-182393 2012-182507

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