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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件
(2011年:第62位 621件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件
(2011年:第41位 739件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2012-186244 | 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、接合装置及び接合システム | 2012年 9月27日 | |
特開 2012-186457 | 上部電極及びプラズマ処理装置 | 2012年 9月27日 | |
特開 2012-186221 | エッチング方法、エッチング装置および記憶媒体 | 2012年 9月27日 | |
特開 2012-186197 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2012年 9月27日 | |
特開 2012-186220 | 基板処理方法、基板処理装置及び記憶媒体 | 2012年 9月27日 | |
特開 2012-186223 | プラズマ処理装置 | 2012年 9月27日 | |
特開 2012-186375 | プラズマ処理方法、膜形成方法、半導体デバイスの製造方法及びプラズマ処理装置 | 2012年 9月27日 | |
特開 2012-186367 | 熱処理装置 | 2012年 9月27日 | |
再表 2010-110256 | チューナおよびマイクロ波プラズマ源 | 2012年 9月27日 | |
特開 2012-182310 | 熱処理装置およびその制御方法 | 2012年 9月20日 | |
特開 2012-182308 | 浮上式塗布装置 | 2012年 9月20日 | |
特表 2012-522379 | 低減された等価酸化膜厚を有する高誘電率ゲートスタックの形成方法 | 2012年 9月20日 | |
特開 2012-182474 | 半導体装置の製造方法及び記憶媒体 | 2012年 9月20日 | |
特開 2012-182393 | 基板搬送装置の位置調整方法、及び基板処理装置 | 2012年 9月20日 | |
特開 2012-182507 | 基板洗浄装置 | 2012年 9月20日 |
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2012-186244 2012-186457 2012-186221 2012-186197 2012-186220 2012-186223 2012-186375 2012-186367 2010-110256 2012-182310 2012-182308 2012-522379 2012-182474 2012-182393 2012-182507
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