特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第60位　712件（2012年：第53位　714件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第45位　796件（2012年：第37位　902件）

（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-168437	成膜装置	2013年 8月29日
特開 2013-167451	風速計測方法及び風速計測装置	2013年 8月29日
特開 2013-168131	処理装置及びバルブ動作確認方法	2013年 8月29日
特開 2013-166287	熱融着装置及び熱融着方法	2013年 8月29日
特開 2013-168449	基板処理装置	2013年 8月29日
特開 2013-168461	基板処理装置及び基板処理方法	2013年 8月29日
特開 2013-168675	処理容器およびプラズマ処理装置	2013年 8月29日
特開 2013-168690	プラズマ処理装置およびフォーカスリングとフォーカスリング部品	2013年 8月29日
特開 2013-168400	半導体デバイス検査装置用配線基板及びその製造方法	2013年 8月29日
特開 2013-168429	液処理装置、液処理方法及び記憶媒体	2013年 8月29日
特開 2013-165254	プラズマドーピング装置、プラズマドーピング方法、半導体素子の製造方法、および半導体素子	2013年 8月22日
特開 2013-163856	スパッタ装置	2013年 8月22日
再表 2012-2232	プラズマ処理装置及び方法	2013年 8月22日
特開 2013-165119	基板処理装置及び基板処理方法	2013年 8月22日
特開 2013-165276	蓋部品、処理ガス拡散供給装置、及び基板処理装置	2013年 8月22日

712 件中 226-240 件を表示

... 16

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-168437 2013-167451 2013-168131 2013-166287 2013-168449 2013-168461 2013-168675 2013-168690 2013-168400 2013-168429 2013-165254 2013-163856 2012-2232 2013-165119 2013-165276

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数