特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第60位　712件（2012年：第53位　714件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第45位　796件（2012年：第37位　902件）

（ランキング更新日：2026年1月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5378586	プライミング処理方法及びプライミング処理装置	2013年12月25日
特許 5378447	塗布、現像装置	2013年12月25日
特許 5374961	塗布、現像装置、及び塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法、並びに記憶媒体	2013年12月25日
特許 5374079	検査用接触構造体	2013年12月25日
特許 5374039	基板処理方法、基板処理装置及び記憶媒体	2013年12月25日
特許 5379589	真空吸着パッド、搬送アーム及び基板搬送装置	2013年12月25日
特許 5378706	プラズマ処理装置及びそれに用いられる処理ガス供給装置	2013年12月25日
特許 5375871	液処理装置、液処理方法、コンピュータプログラムを格納した記憶媒体	2013年12月25日
特許 5379773	めっき処理装置及びめっき処理方法並びにめっき処理プログラムを記録した記録媒体	2013年12月25日
特許 5374590	スパッタリング装置	2013年12月25日
特許 5374749	絶縁膜の形成方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体および処理システム	2013年12月25日
特許 5374748	絶縁膜の形成方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体および処理システム	2013年12月25日
特許 5379732	基板処理装置	2013年12月25日
特許 5376816	マイクロ波導入機構、マイクロ波プラズマ源およびマイクロ波プラズマ処理装置	2013年12月25日
特許 5375853	成膜装置、成膜方法及び記憶媒体	2013年12月25日

794 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5378586 5378447 5374961 5374079 5374039 5379589 5378706 5375871 5379773 5374590 5374749 5374748 5379732 5376816 5375853

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数