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東京エレクトロン株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第53位 714件 上昇2011年:第62位 621件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第37位 902件 上昇2011年:第41位 739件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特表 2012-522307 ツール性能劣化およびミスマッチの検出のための方法およびシステム 2012年 9月20日
特開 2012-182507 基板洗浄装置 2012年 9月20日
特開 2012-182474 半導体装置の製造方法及び記憶媒体 2012年 9月20日
特開 2012-182393 基板搬送装置の位置調整方法、及び基板処理装置 2012年 9月20日
特表 2012-522379 低減された等価酸化膜厚を有する高誘電率ゲートスタックの形成方法 2012年 9月20日
特開 2012-178613 成膜装置および成膜方法 2012年 9月13日 共同出願
特開 2012-178378 半導体装置の製造方法 2012年 9月13日
特開 2012-176856 カーボンナノチューブの形成方法、その前処理方法、電子放出素子及び照明装置 2012年 9月13日
特開 2012-176855 カーボンナノチューブの形成方法及び前処理方法 2012年 9月13日
特開 2012-178572 アモルファスシリコン膜の成膜方法および成膜装置 2012年 9月13日
特表 2012-521659 プラズマエッチング法 2012年 9月13日
再表 2010-103953 基板処理装置、トラップ装置、基板処理装置の制御方法及びトラップ装置の制御方法 2012年 9月13日
特開 2012-178527 載置装置 2012年 9月13日
特開 2012-178576 熱処理装置及び記憶媒体 2012年 9月13日
特開 2012-178544 液処理装置および液処理方法 2012年 9月13日

714 件中 241-255 件を表示

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2012-522307 2012-182507 2012-182474 2012-182393 2012-522379 2012-178613 2012-178378 2012-176856 2012-176855 2012-178572 2012-521659 2010-103953 2012-178527 2012-178576 2012-178544

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