特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第53位　714件（2011年：第62位　621件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第37位　902件（2011年：第41位　739件）

（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特表 2012-522307	ツール性能劣化およびミスマッチの検出のための方法およびシステム	2012年 9月20日
特開 2012-182507	基板洗浄装置	2012年 9月20日
特開 2012-182474	半導体装置の製造方法及び記憶媒体	2012年 9月20日
特開 2012-182393	基板搬送装置の位置調整方法、及び基板処理装置	2012年 9月20日
特表 2012-522379	低減された等価酸化膜厚を有する高誘電率ゲートスタックの形成方法	2012年 9月20日
特開 2012-178613	成膜装置および成膜方法	2012年 9月13日	共同出願
特開 2012-178378	半導体装置の製造方法	2012年 9月13日
特開 2012-176856	カーボンナノチューブの形成方法、その前処理方法、電子放出素子及び照明装置	2012年 9月13日
特開 2012-176855	カーボンナノチューブの形成方法及び前処理方法	2012年 9月13日
特開 2012-178572	アモルファスシリコン膜の成膜方法および成膜装置	2012年 9月13日
特表 2012-521659	プラズマエッチング法	2012年 9月13日
再表 2010-103953	基板処理装置、トラップ装置、基板処理装置の制御方法及びトラップ装置の制御方法	2012年 9月13日
特開 2012-178527	載置装置	2012年 9月13日
特開 2012-178576	熱処理装置及び記憶媒体	2012年 9月13日
特開 2012-178544	液処理装置および液処理方法	2012年 9月13日

714 件中 241-255 件を表示

... 17

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-522307 2012-182507 2012-182474 2012-182393 2012-522379 2012-178613 2012-178378 2012-176856 2012-176855 2012-178572 2012-521659 2010-103953 2012-178527 2012-178576 2012-178544

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数