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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件
(2011年:第62位 621件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件
(2011年:第41位 739件)
(ランキング更新日:2025年3月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-248759 | 半導体装置の製造方法 | 2012年12月13日 | |
特開 2012-248695 | 基板反り除去装置、基板反り除去方法及び記憶媒体 | 2012年12月13日 | |
特開 2012-244045 | プラズマ処理装置 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-243869 | 基板乾燥方法及び基板処理装置 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-241237 | 成膜装置 | 2012年12月10日 | |
特表 2012-531742 | アモルファスカーボンのドーピングによるフルオロカーボン(CFx)の接合の改善 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-244128 | 液処理装置、液処理方法 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-243776 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-244130 | 液処理装置および液処理装置の洗浄方法 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-240155 | スナップリング取付用工具 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-244129 | 液処理装置、液処理方法 | 2012年12月10日 | |
特表 2012-531741 | プラズマ処理方法 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-238911 | 基板処理装置 | 2012年12月 6日 | |
特開 2012-238845 | プラズマ処理装置 | 2012年12月 6日 | |
特開 2012-238875 | 基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法 | 2012年12月 6日 |
714 件中 16-30 件を表示
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2012-248759 2012-248695 2012-244045 2012-243869 2012-241237 2012-531742 2012-244128 2012-243776 2012-244130 2012-240155 2012-244129 2012-531741 2012-238911 2012-238845 2012-238875
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特許制度に詳しい方にこそ知って欲しい意匠権の使い方 ~コスパの高い意匠権を使って事業を守る方法を、特許権と比較して解説~
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