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東京エレクトロン株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第53位 714件 上昇2011年:第62位 621件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第37位 902件 上昇2011年:第41位 739件)

(ランキング更新日:2020年11月19日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-248634 温度測定装置、温度測定方法、記憶媒体及び熱処理装置 2012年12月13日
特開 2012-248759 半導体装置の製造方法 2012年12月13日
特表 2012-531742 アモルファスカーボンのドーピングによるフルオロカーボン(CFx)の接合の改善 2012年12月10日
特開 2012-241237 成膜装置 2012年12月10日
特表 2012-531741 プラズマ処理方法 2012年12月10日
特開 2012-243869 基板乾燥方法及び基板処理装置 2012年12月10日
特開 2012-244045 プラズマ処理装置 2012年12月10日
特開 2012-244128 液処理装置、液処理方法 2012年12月10日
特開 2012-240155 スナップリング取付用工具 2012年12月10日
特開 2012-244129 液処理装置、液処理方法 2012年12月10日
特開 2012-244130 液処理装置および液処理装置の洗浄方法 2012年12月10日
特開 2012-243776 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 2012年12月10日
特開 2012-238845 プラズマ処理装置 2012年12月 6日
特開 2012-238762 基板搬送装置、これを備える塗布現像装置、及び基板搬送方法 2012年12月 6日
特開 2012-238875 基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法 2012年12月 6日

714 件中 16-30 件を表示

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2012-248634 2012-248759 2012-531742 2012-241237 2012-531741 2012-243869 2012-244045 2012-244128 2012-240155 2012-244129 2012-244130 2012-243776 2012-238845 2012-238762 2012-238875

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