特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第58位　686件（2013年：第60位　712件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第48位　694件（2013年：第45位　796件）

（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-130931	基板処理装置および基板処理方法	2014年 7月10日
特開 2014-130901	液処理装置及び液処理方法	2014年 7月10日
再表 2012-115165	膜形成方法および膜形成装置	2014年 7月 7日
特開 2014-127584	基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体	2014年 7月 7日
特開 2014-127694	シリコン膜の成膜方法および成膜装置	2014年 7月 7日
特開 2014-127693	シード層の形成方法、シリコン膜の成膜方法および成膜装置	2014年 7月 7日
特開 2014-125674	マンガン含有膜の形成方法、処理システム、電子デバイスの製造方法および電子デバイス	2014年 7月 7日
特開 2014-125653	成膜方法	2014年 7月 7日
特開 2014-127572	プラズマドーピング装置、およびプラズマドーピング方法	2014年 7月 7日
特開 2014-127635	基板搬送方法、基板搬送装置及び記憶媒体	2014年 7月 7日
特開 2014-127627	薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法、薄膜形成装置、及び、プログラム	2014年 7月 7日
再表 2012-118119	アニール方法及びアニール装置	2014年 7月 7日
再表 2012-118199	蒸着装置、蒸着方法、有機ＥＬディスプレイ、及び照明装置	2014年 7月 7日	共同出願
再表 2012-108439	基板中継装置，基板中継方法，基板処理装置	2014年 7月 3日
特開 2014-123676	成膜方法	2014年 7月 3日

685 件中 286-300 件を表示

... 20

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-130931 2014-130901 2012-115165 2014-127584 2014-127694 2014-127693 2014-125674 2014-125653 2014-127572 2014-127635 2014-127627 2012-118119 2012-118199 2012-108439 2014-123676

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数