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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-112664	エッチング処理方法及び基板処理装置	2014年 6月19日
特開 2014-112644	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2014年 6月19日
特開 2014-112638	基板冷却部材、基板処理装置及び基板処理方法	2014年 6月19日
特表 2014-514533	ライブラリベースで限界寸法（ＣＤ）を計測するための正確かつ高速なニューラルネットワークの訓練	2014年 6月19日	共同出願
特表 2014-514727	光学計測及びセンサ装置を用いるエッチングプロセス制御	2014年 6月19日	共同出願
特開 2014-110386	周縁部塗布装置、周縁部塗布方法及び周縁部塗布用記録媒体	2014年 6月12日
特開 2014-110378	成膜装置	2014年 6月12日
特開 2014-109436	基板の欠陥検査方法、基板の欠陥検査装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2014年 6月12日
特開 2014-110388	剥離装置、剥離システムおよび剥離方法	2014年 6月12日
特開 2014-110387	剥離装置、剥離システムおよび剥離方法	2014年 6月12日
特開 2014-110296	基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体	2014年 6月12日
特開 2014-107488	高圧容器、基板処理装置及び高圧容器の製造方法	2014年 6月 9日
特開 2014-107412	搬送システム及び成膜装置	2014年 6月 9日
再表 2012-98871	真空処理装置	2014年 6月 9日
特開 2014-107344	成膜方法、その成膜方法のプログラム、そのプログラムを記録した記録媒体、及び、成膜装置	2014年 6月 9日

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2014-112664 2014-112644 2014-112638 2014-514533 2014-514727 2014-110386 2014-110378 2014-109436 2014-110388 2014-110387 2014-110296 2014-107488 2014-107412 2012-98871 2014-107344

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