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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
(2013年:第60位 712件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
(2013年:第45位 796件)
(ランキング更新日:2025年2月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2014-99542 | 基板受渡機構、基板搬送装置及び基板受渡方法 | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-99494 | 基板処理装置及び基板搬送方法 | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-98202 | 成膜装置 | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-99585 | プラズマ処理装置 | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-99583 | 基板洗浄装置、基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体 | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-99576 | 搬送機構の位置決め方法、被処理体の位置ずれ量算出方法及び搬送機構のティーチングデータの修正方法 | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-99541 | 低誘電率誘電膜の形成方法、形成装置及びポロジェンの脱離方法 | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-99528 | 液処理装置 | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-99519 | 基板載置台および基板処理装置 | 2014年 5月29日 | |
特表 2014-513416 | 固相拡散により極浅ドーピング領域を形成する方法 | 2014年 5月29日 | |
特表 2014-513390 | イオンエネルギーアナライザ、当該イオンエネルギーアナライザ内での電気信号処理方法、並びに、当該イオンエネルギーアナライザの製造及び操作方法 | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-96453 | 熱処理装置 | 2014年 5月22日 | |
特開 2014-95131 | 成膜装置 | 2014年 5月22日 | |
特開 2014-96500 | プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 | 2014年 5月22日 | |
特開 2014-96594 | プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法 | 2014年 5月22日 |
685 件中 361-375 件を表示
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2014-99542 2014-99494 2014-98202 2014-99585 2014-99583 2014-99576 2014-99541 2014-99528 2014-99519 2014-513416 2014-513390 2014-96453 2014-95131 2014-96500 2014-96594
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3月11日(火) - 大阪 大阪市
特許制度に詳しい方にこそ知って欲しい意匠権の使い方 ~コスパの高い意匠権を使って事業を守る方法を、特許権と比較して解説~
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