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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-86632 | プラズマ処理装置 | 2014年 5月12日 | |
| 特開 2014-86545 | 基板処理装置 | 2014年 5月12日 | |
| 特開 2014-86519 | 太陽電池の製造方法、および、太陽電池 | 2014年 5月12日 | |
| 特開 2014-86500 | 銅層をエッチングする方法、及びマスク | 2014年 5月12日 | |
| 特開 2014-86487 | 基板処理システム及び基板の搬送制御方法 | 2014年 5月12日 | |
| 再表 2012-63901 | 半導体装置の製造方法および製造装置 | 2014年 5月12日 | |
| 特開 2014-86290 | ヒータ装置 | 2014年 5月12日 | |
| 特開 2014-84886 | 管継手 | 2014年 5月12日 | 共同出願 |
| 特開 2014-83746 | パターン形成方法及び凸版 | 2014年 5月12日 | |
| 特開 2014-86639 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2014年 5月12日 | |
| 特開 2014-86638 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2014年 5月12日 | |
| 特開 2014-79990 | 断熱壁体の製造方法及び断熱壁体 | 2014年 5月 8日 | |
| 特開 2014-82439 | 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム | 2014年 5月 8日 | |
| 特開 2014-82419 | 成膜方法及び成膜装置 | 2014年 5月 8日 | |
| 特開 2014-82322 | シリコン窒化物膜の成膜方法および成膜装置 | 2014年 5月 8日 |
685 件中 406-420 件を表示
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2014-86632 2014-86545 2014-86519 2014-86500 2014-86487 2012-63901 2014-86290 2014-84886 2014-83746 2014-86639 2014-86638 2014-79990 2014-82439 2014-82419 2014-82322
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