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東京エレクトロン株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第62位 621件 下降2010年:第57位 692件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第41位 739件 下降2010年:第39位 580件)

(ランキング更新日:2020年7月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特表 2011-529272 高温静電チャック 2011年12月 1日
特開 2011-238825 プラズマ処理装置及び半導体装置の製造方法 2011年11月24日
特開 2011-238798 周縁露光装置及び周縁露光方法 2011年11月24日
特開 2011-238841 金属膜形成システム 2011年11月24日
特開 2011-238666 薬液供給システム、これを備える基板処理装置、およびこの基板処理装置を備える塗布現像システム 2011年11月24日
特開 2011-236506 クリーニング方法 2011年11月24日
特開 2011-238808 被処理体の搬送方法、被処理体の搬送装置、及び、プログラム 2011年11月24日
特開 2011-238673 半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置 2011年11月24日
特開 2011-236478 金属膜形成システム、金属膜形成方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2011年11月24日
特開 2011-238967 液処理装置 2011年11月24日
特開 2011-236479 金属膜形成システム、金属膜形成方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2011年11月24日
特開 2011-233789 処理液供給機構 2011年11月17日
特開 2011-233788 基板処理装置及び基板処理システム 2011年11月17日
特開 2011-233799 現像処理方法 2011年11月17日
特開 2011-233907 液処理装置 2011年11月17日

621 件中 31-45 件を表示

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2011-529272 2011-238825 2011-238798 2011-238841 2011-238666 2011-236506 2011-238808 2011-238673 2011-236478 2011-238967 2011-236479 2011-233789 2011-233788 2011-233799 2011-233907

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