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東京エレクトロン株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第53位 714件 上昇2011年:第62位 621件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第37位 902件 上昇2011年:第41位 739件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-238885 熱処理装置の運転方法 2012年12月 6日
特開 2012-238656 プラズマ生成用電極およびプラズマ処理装置 2012年12月 6日
特開 2012-238664 現像処理装置、現像処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2012年12月 6日
特開 2012-238711 堆積物除去方法 2012年12月 6日 共同出願
特開 2012-238875 基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法 2012年12月 6日
特開 2012-238762 基板搬送装置、これを備える塗布現像装置、及び基板搬送方法 2012年12月 6日
特開 2012-238911 基板処理装置 2012年12月 6日
特開 2012-238845 プラズマ処理装置 2012年12月 6日
特開 2012-237026 成膜装置 2012年12月 6日
特開 2012-234987 基板処理方法、その基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び基板処理システム 2012年11月29日
特開 2012-233259 アモルファスカーボン膜の成膜方法、それを用いた半導体装置の製造方法、およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 2012年11月29日 共同出願
特開 2012-235132 液処理におけるノズル洗浄、処理液乾燥防止方法及びその装置 2012年11月29日
特開 2012-235087 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 2012年11月29日
特開 2012-232298 液処理におけるノズル洗浄方法及びその装置 2012年11月29日
特開 2012-231116 液処理方法、液処理装置および記憶媒体 2012年11月22日

714 件中 31-45 件を表示

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2012-238885 2012-238656 2012-238664 2012-238711 2012-238875 2012-238762 2012-238911 2012-238845 2012-237026 2012-234987 2012-233259 2012-235132 2012-235087 2012-232298 2012-231116

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